聂陟枫，男，汉族，1989年2月生，湖南邵阳人，中共党员，工学博士/博士后，特聘研究员，硕士生导师，云南省高层次人才培养支持计划“青年拔尖人才”，昆明市中青年学术和技术带头人后备人才，昆明市“春城计划”高层次人才引进青年人才。主要从事化学法多晶硅制备应用基础研究、高纯度有机光电子OLED纳米材料制备基础研究及技术开发等。目前主持国家级项目2项，省部市厅级科研项目6项，包括：国家自然科学基金青年项目、中国博士后科学基金面上项目、云南省高层次人才培养支持计划青年拔尖人才项目、“春城计划”高层次人才引进工程青年人才项目、云南省博士后定向培养资助项目，云南省应用基础研究计划青年项目、省部共建复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室开放基金以及云南省教育厅科学研究基金项目等。发表学术论文30余篇，其中以第一作者/通讯作者发表SCI/EI学术论文18篇，分别发表于International Journal of Heat and Mass Transfer、Applied Thermal Engineering、International Communications in Heat and Mass Transfer及 International Journal of Thermal Sciences等国际知名Top期刊；曾获云南省自然科学二等奖、云南省博士后优秀成果奖励三等奖。
研究领域：
1. 化学法多晶硅制备应用基础研究：研究重点为西门子法基础理论研究和应用技术研究、化学气相沉积技术原理及应用、流化床载体流态化控制技术开发，着重从第一性原理、分子动力学、化学反应动力学、物理化学和现代分析测试技术等方面对材料气相沉积领域涉及的基本规律进行前沿应用基础研究。
2. 有机光电子OLED纳米材料制备技术研究：发展连接微观、介观与宏观的多尺度计算机模拟方法，建立自我特色的基础理论计算体系，探索OLED纳米材料在不同尺度下的复杂结构及相变演化过程，揭示发光、光电转换等过程的本质规律。
教育经历：
1. 2012/09-2016/06，昆明理工大学，冶金与能源工程学院，冶金物理化学，博士，导师：谢刚
2. 2011/09-2014/06，昆明理工大学，冶金与能源工程学院，有色金属冶金，硕士，导师：谢刚
3. 2007/09-2011/06，重庆科技学院，冶金与材料工程学院，冶金工程，学士，导师：夏文堂
科研与学术工作经历：
1. 2022/01-至今，昆明学院，云南省高校有机光电子材料与器件重点实验室，特聘研究员
2. 2020/11-2021/12，昆明学院，云南省高校有机光电子材料与器件重点实验室，副研究员
3. 2018/09-2020/11，昆明学院，云南省高校有机光电子材料与器件重点实验室，助理研究员
4. 2016/09-2018/09，昆明理工大学，矿业工程博士后流动站，博士后，合作教授：邓久帅，文书明
主持或参加科研项目（课题）及人才计划项目情况：
1. 国家自然科学基金青年基金项目，51904137，基于流化床反应器SiCl4氯氢化过程流化行为及热质传递特性研究，2020/01-2022/12，24万元，在研，主持
2. 中国博士后科学基金面上项目，2017M61328XB，多晶硅化学气相沉积中B掺杂过程反应机理及动力学研究，2016/09-2018/09，5万元，已结题，主持
3. 云南省高层次人才培养支持计划“青年拔尖人才”项目，YNWR-QNBJ-2020-017，西门子法多晶硅制备应用基础研究，2021/01-2025/12，50万元，在研，主持
4. 昆明市“春城计划”高层次人才引进工程青年人才项目，C201905002，高纯度有机光电子OLED纳米材料CuPc制备关键技术，2020/01-2024/12，100万元，在研，主持
5. 云南省第四批博士后定向培养资助项目，石英矿和硅高纯化制备应用基础研究，2016/09-2018/09，16万元，已结题，主持
6. 云南省应用基础研究计划青年项目，2019FD044，高效节能型多晶硅还原炉电加热机制研究，2019/07-2022/06，5万元，在研，主持
7. 省部共建复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室开放课题，CNMRCUKF1905，高纯硅还原炉能量耗散机制及节能降耗研究，2019/09-2021/08，10万元，已结题，主持
8. 云南省教育厅科学研究基金教师类项目，2019J0564，流化床反应器SiCl4氯氢化过程流动可视化研究及数值模拟，2019/05-2021/04，2万元，已结题，主持
代表性学术论文：
1. Nie Zhifeng*, Hou Yanqing, Xie Gang, Tian Lin, Mathematical model and energy efficiency analysis of Siemens reactor with a quartz ceramic lining, Applied Thermal Engineering, 2021, 199,117522.
2. Li Yadong, Nie Zhifeng*, Hou Yanqing, Xie Gang, Tian Lin, Parametric study of flow field and mixing characteristics of TiCl4 jet injected into O2 crossflow in oxidation reactor for titanium pigment production by chloride process, International Journal of Thermal Sciences, 2020, 156,106460.
3. Nie Zhifeng, Palghat A. Ramachandran, Hou Yanqing, Optimization of effective parameters on Siemens reactor to achieve potential maximum deposition radius: An energy consumption analysis and numerical simulation, International Journal of Heat and Mass Transfer, 2018, 117: 1083-1098
4. Nie Zhifeng, Deng Jiushuai, Zhou Yangmin, Wen Shuming, Hou Yanqing, Prediction of thermal and electrical behavior of silicon rod for a 48-rod Siemens reactor by direct current power, International Communications in Heat and Mass Transfer, 2017, 80: 148-159
5. Nie Zhifeng, Hou Yanqing, Deng Jiushuai, Palghat A. Ramachandran, Wen Shuming, Ma Wenhui, The combined effect of heat transfer and skin effect on Joule heating for silicon rod in Siemens reactor, Applied Thermal Engineering, 2017, 125: 856-869
6. Nie Zhifeng, Zhou Yangmin, Deng Jiushuai, Wen Shuming, Hou Yanqing, Thermal and electrical behavior of silicon rod with varying radius in a 24-rod Siemens reactor considering skin effect and wall emissivity, International Journal of Heat and Mass Transfer, 2017, 111: 1142-1156
7. Nie Zhifeng, Hou Yanqing, Xie Gang, Cui Yan, Yu Xiaohua, Electric heating of the silicon rods in Siemens reactor, International Journal of Heat and Mass Transfer, 2015, 90: 1026-1033
8. Nie Zhifeng, Xie Gang, Hou Yanqing, Cui Yan, Yu Zhanliang, Tian Lin, Numerical simulation of polysilicon chemical vapor deposition in Siemens reactor, Materials Science Forum, 2015, 83: 107-111
9. Nie Zhifeng, Xie Gang, Hou Yanqing, Cui Yan, Li Rongxing, Yu Zhanliang, Fluid dynamic simulations on polysilicon production, Applied Mechanics and Materials, 2014, 444-445: 991-995
10. Hou Yanqing, Nie Zhifeng, Xie Gang, Li Rongxing, Yu Xiaohua, Palghat A. Ramachandran, Thermodynamic behaviors of SiCl2 in silicon deposition by gas phase zinc reduction of silicon tetrachloride, Chinese Journal of Chemical Engineering, 2015, 23(3): 552-558
